一颗芯片能够被制造出来,背后离不开一套庞大而复杂的设备与材料体系。
光刻、刻蚀、沉积、清洗、抛光、量检测……晶圆制造的每一道工序,都对应着专业化设备;与此同时,靶材、抛光液、电子化学品、特种材料等,也在持续支撑着芯片制造工艺向更高精度推进。
相比芯片设计和终端产品,半导体设备与材料往往藏在产业链的幕后,却决定着晶圆厂能不能稳定生产、先进工艺能不能持续迭代。随着国产半导体产业链不断完善,设备与材料的重要性也越来越凸显。
2026国芯展半导体设备与材料展区,将把这些藏在芯片背后的“硬支撑”集中呈现。
设备端
设备端,北方华创、中微公司、拓荆科技、华海清科、盛美半导体、中科飞测、凯世通等国内主流设备企业集中亮相,覆盖刻蚀、薄膜沉积、抛光、清洗、量检测等晶圆制造关键环节。
从前道工艺设备到量检测设备,产业链上的不同环节正在形成更加完整的国产供应体系。过去一台设备的突破可能只是单点能力的提升,如今随着更多企业进入不同工艺环节,国产半导体设备正在从单点突破走向产业链协同。
材料端
材料同样是半导体制造不可替代的一环。
芯片制造需要大量高纯度、高性能材料,而且越往先进工艺走,对材料的纯度、稳定性和工艺适配能力要求越高。材料看似只是制造过程中的“消耗品”,实际上却直接影响良率、性能和生产稳定性。
在材料板块,江丰电子、安集科技、上海新阳、新宙邦、晶瑞电子、鼎龙股份等企业将集中展示,覆盖靶材、抛光液、湿电子化学品、特种高分子材料等关键国产材料。
产业协同
设备决定工艺能否落地,材料则决定工艺能否稳定运行。两者共同构成晶圆制造背后的基础能力,也成为半导体产业链自主化过程中绕不开的一场硬仗。
因此,2026国芯展的半导体设备与材料展区,并不是简单地把设备和材料企业放在一起展示,而是希望通过产业链视角,让观众看到一颗芯片背后更加庞大的制造体系。
从刻蚀设备到抛光设备,从量检测到清洗;从靶材到抛光液,从电子化学品到特种高分子材料,越来越多企业正在深入芯片制造的关键环节。
芯片产业的竞争,最终不只是设计能力的竞争,也是一整套设备、材料与工艺协同能力的竞争。
2026国芯展,将汇聚半导体设备与材料领域的代表性企业,集中呈现我国设备与材料从单点突破走向体系化发展的最新进展。
从一台设备、一种材料,到一条完整的产业链,2026国芯展半导体设备与材料展区,带你看见芯片制造背后的真正“硬实力”。
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